中国企業がDUV露光装置を量産だが

中国企業が先端半導体製造に不可欠な技術である国産の液浸深紫外（ＤＵＶ）露光装置の量産を開始‌したことが、関係者の話で分かった。半導体製造技術の自⁠立を目指す習近平指導部にとって意味ある一歩となる。 ＤＵＶ露光装置は、オランダの半導体製造機器大手ＡＳＭＬの独占状態にある。

このDUV露光装置の性能は解像度≤65nm、オーバーレイ精度≤8nm。解像度はSMEEがこれ以前に発表したSSA600よりも上がったものの、28nm半導体製造プロセスに対応できるレベルには到達できておらず、ましては8nm、7nmの微細プロセスへの対応は到底不可能だ。

それに対しASMLのDUV露光装置は7nmプロセスでの製造を可能にしている。

今回の露光装置は中国でも手に入るDUV露光装置のコピー版と思われるが、各社が大々的に取り上げた理由はなんでも国産化を進めるということに対する中国の政策を強調したかっただけだろう。